iO2/SiO2制程中都使用300EV的驱动电压，目的是在两种材料中都使用无栅极离子源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择取决于TiO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围. TiO?用于防反膜，分光膜，冷光膜，滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状，熔点：1175℃

透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量

400--12000 2.35 2000-2200 电子枪，防反膜，增透 多

TiO2用于防反膜，装饰膜，滤光片，高反膜

Ti2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜 次数用完API KEY 超过次数限制

二氧化硅

名称： 二氧化硅（SiO2）

经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.

SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性

SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.

透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量

200--2000 1.46 1800-2200 电子枪，防反膜，增透 少，升华

无色颗粒状，折射率稳定，放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等. 次数用完API KEY 超过次数限制

收缩应力是复合树脂材料加工中必然存在的一种状态。树脂聚合时，单体分子间产生聚合反应，形成共价键连接的网状大分子。分子间距离缩小导致体积收缩，多数树脂材料体积收缩幅度在1.5%- 3%之间。影响收缩应力的因素主要有两个方面：一是材料的性质，如弹性模量、树脂基质、无机填料的量、直径等；二是充填的过程，如洞形因素、修复技术、固化速度、黏结剂厚度等。复合树脂是临床应用非常广泛的一种牙体修复材料，可以通过物理和化学方式与牙体组织结合，增加了固位力，降低了对洞形的要求，尽可能地保存了牙体组织。 次数用完API KEY 超过次数限制